光刻机概念震荡走强 新莱应材涨超12%
光刻机（胶）
【光刻机概念震荡走强 新莱应材涨超12%】光刻机概念震荡走强，新莱应材涨超12%，波长光电、蓝英装备、富创精密、海立股份跟涨。消息面上，美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外光刻装置，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。
相关股票
13 只 · 按关联度排序
新
92%
加载行情
新闻领涨龙头（涨超12%）。公司泛半导体业务收入占31.9%，主营高洁净管阀、真空腔体等超高洁净材料，是光刻机等半导体设备的关键零部件供应商。2025年报显示泛半导体收入贡献34.1%的利润，直接受益于EUV光刻技术进步带动的半导体设备需求增长。
富
88%
加载行情
新闻直接点名跟涨。公司是国产半导体设备精密零部件领军企业，产品包括工艺零部件、结构零部件、模组产品等，集成电路及贸易收入占84.5%。国内少数能满足7nm制程精密零部件标准的供应商，直接服务于国产光刻机及刻蚀设备产业链。
中
88%
加载行情
2025年报明确披露："滤光片、白光三角3D测量传感器等产品已经成功导入全球顶尖光刻机、半导体刻蚀设备、半导体量检测设备客户"，精密光学镜头及元件已进入全球顶级光刻机厂商供应链。先进制造与检测领域收入占比11.4%，是光刻机光学系统的核心供应商。
茂
85%
加载行情
公司可转债上市公告（2025-12-08）明确写明：精密光学器件"可应用于光刻机、高分卫星、探月工程、民航飞机等国家重大战略发展领域"。产品覆盖深紫外DUV到远红外全谱段，精密光学元件收入占43.8%，直接配套光刻机光学系统。
中
85%
加载行情
2025年8月6日公告：光刻气产品获得日本GIGAPHOTON株式会社合格供应商认证。GIGAPHOTON是全球光刻用准分子激光机和EUV/DUV光源的核心开发商。公司电子特种气体收入占85.2%，集成电路与显示行业收入占79.8%，直接受益于EUV光刻技术对特种气体的需求。
芯
82%
加载行情
国内直写光刻设备龙头，专业从事微纳直写光刻设备的研发和生产。泛半导体直写光刻设备收入占16.6%，产品涵盖PCB直接成像设备和泛半导体光刻设备。桌面级EUV突破验证了光刻技术小型化趋势，利好公司直写光刻技术路线。
龙
80%
加载行情
国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商，半导体掩模版收入占99.8%。公司公告（2026-03-24）详述EUV光掩膜技术（13.5nm反射式光罩），掩模版是EUV光刻工艺中不可替代的核心耗材，直接受益于光刻技术进步对高端掩模版的需求提升。
波
78%
加载行情
新闻直接点名跟涨。国内精密光学元件、组件主要供应商，产品覆盖紫外、可见到红外全波段，光学组件收入占50.3%。公司2025年三季报显示半导体及泛半导体领域业务占比逐步提升，精密光学系统可应用于光刻机光学子系统。
赛
75%
加载行情
2025年报披露客户包括"光刻机、DNA/RNA测序、硅光子、AI计算"等国际知名厂商。公司MEMS纯代工收入占83%，服务于全球顶尖设备商。虽非直接光刻机制造商，但其MEMS工艺开发与晶圆制造能力是半导体产业链关键环节。
苏
72%
加载行情
公司以自主研发的三维光刻设备为核心驱动力，在大面积微纳三维光刻、纳米光刻、纳米压印等领域形成特色优势。微纳光学产品及设备收入占87.5%，公司自研光刻设备用于微纳结构制造，桌面级EUV技术方向与公司在光刻领域的技术积累相呼应。
腾
72%
加载行情
精密光学元件及光纤器件供应商，产品应用于半导体设备等领域。拥有六大核心技术平台（光学薄膜、精密光学、模压非球面、光纤器件、衍射光学等），光学元件收入占78.4%，可配套光刻机所需的精密光学子系统。
炬
70%
加载行情
激光行业上游核心元器件供应商，激光光学元器件收入占43.5%。产品涵盖高功率半导体激光元器件和激光光学元器件，可应用于泛半导体制程。公司收购SUSS MicroOptics后强化了在精密光学微纳加工领域的能力，光刻机概念关联性强。
蓝
62%
加载行情
新闻直接点名跟涨。旗下德国Ecoclean为全球工业清洗系统知名品牌，工业清洗系统收入占97.5%。半导体设备精密零部件需要高洁净度清洗工艺，公司表面处理业务可为光刻机等半导体设备提供配套清洗服务，但关联度相对间接。