二维码已放在图片底部,复制后可直接发送给好友。
【杭州征求意见:到2028年全市OPC基金总规模超30亿元 投资OPC不少于100家】杭州市科学技术局起草了《杭州市打造全国“AI+OPC”创业新高地行动计划(2026—2028年)(征...
公司主营业务为半导体掩模版(光罩)研发生产,2025年报明确披露核心技术聚焦'OPC补偿'(光学邻近校正),并开展'基于OPC和SRAFs的先进光罩刻蚀工艺开发'。OPC(光学邻近校正)是光掩膜版制造中光刻图形补偿的核心环节,AI+OPC正是用AI优化这一过程,公司是该政策最直接的技术承载标的。
国内EDA绝对龙头(EDA软件销售占收入81.1%),晶圆制造EDA工具中OPC(光学邻近校正)是核心模块之一。公司产品覆盖模拟/数字/晶圆制造全流程EDA,AI+OPC即用AI技术优化OPC算法,是EDA工具软件发展的前沿方向,公司直接受益于杭州OPC产业基金对EDA赛道创业企业的投资带动。
公司注册地和总部位于杭州,是杭州本地唯一EDA上市公司。主营EDA软件与晶圆级电性测试设备(EDA软件占收入37.8%),并有人工智能概念板块,AI+OPC方向与其技术路线高度匹配。杭州市30亿OPC基金将重点投资杭州本地OPC创业企业,广立微作为杭州EDA龙头将直接受益于本地产业生态繁荣和基金投资溢出效应。
公司再融资审核问询回复中明确提及'PSM、OPC光罩图型检测参数修正技术',并指出'AI技术正深度介入光掩膜版设计和制造环节——通过机器学习优化掩膜图形、AI模型预测缺陷、提高良率',这完美对应'AI+OPC'政策方向。公司已布局光掩膜版业务(收入占比1.2%),虽处早期但技术布局与政策高度吻合。
国内领先的专业第三方掩膜版厂商,产品是下游半导体光刻工艺图形转移的刚需母版。掩膜版制造中OPC(光学邻近校正)是必需的光刻补偿技术,路维光电作为高精度掩膜版龙头,其产品制程直接关联OPC技术应用精度。AI+OPC产业政策将推动掩膜版行业整体技术升级,公司是产业链核心受益环节。
手机端可长按图片保存。