龙图光罩拟定增募资不超14.6亿元建设40nm-28nm半导体掩模版生产线
龙图光罩公告拟向特定对象发行股票募资不超过14.6亿元，扣除发行费用后的净额全部用于40nm-28nm半导体掩模版生产线建设项目。本次发行对象为不超过35名符合中国证监会规定条件的特定对象。
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哎，跟大家说个事儿，龙图光罩最近发了个定增公告，要募资不超过14.6个亿，全部用来建40nm到28nm的半导体掩模版生产线。
可能有些朋友不太清楚掩模版是啥，我简单说一下啊——这就是芯片制造里的关键模具，没有它，光刻机根本没法在晶圆上“画”电路图。这次龙图光罩要做的40nm到28nm节点，属于成熟制程范畴，别看不是最先进的，但市场需求量特别大，占了整个掩膜需求差不多90%。
说白了，这就是在国产替代这个大逻辑下的一次产能布局。国内晶圆厂这两年都在扩产，中芯国际这些龙头企业的资本开支预计要增长20%，下游需求是很实在的。消息出来，常州维普那些做掩膜检测设备的公司肯定也会跟着受益。
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