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隆扬电子研发HVLP5高频高速铜箔,已向头部覆铜板厂商送样

隆扬电子公告,公司通过自有核心技术研发的HVLP5高频高速铜箔,具有极低的表面粗糙度且具备高剥离力的特点,未来可主要应用于AI服务器、通讯、车用雷达等需要高频高速低损耗的应用场景。公司已向中国(大陆及台湾地区)和日本的多家头部覆铜板厂商(CCL厂)送样,目前公司与下游客户开发验证顺利推进中。目前,公司第一个HVLP5铜箔细胞工厂已完成建设,设备陆续装机中。但相关产品目前尚未形成规模化收入。

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