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“内爆雕刻”技术可在三维材料内精确刻写结构

【“内爆雕刻”技术可在三维材料内精确刻写结构】美国麻省理工学院(MIT)研究团队开发出一种名为“内爆雕刻”的新型纳米制造技术,可在三维材料内部精确刻写结构。该技术加工精度优于100纳米,并成功制造出可用于可见光计算的微型三维光子器件,为可见光计算和高速光学处理提供了新的制造方案。相关成果发表于最新一期《自然·光子学》杂志。

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公司主营AWG/PLC/DFB光子芯片及器件,公司介绍明确将"光计算"列为应用领域,建有河南省光子集成芯片中试基地及国家地方联合实验室。MIT"内爆雕刻"技术(精度<100nm)可制造可见光三维光子器件,直接验证光子集成路线,与公司IDM光芯片工艺平台方向高度契合。
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2026年1月30日业绩预告明确公告"把光电集成共封技术从光传感互用至光引擎、光计算等领域",战略聚焦光电集成封测及传感器。MIT可见光光子器件制造技术突破,与公司光计算战略方向直接呼应。
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公司深耕光子集成器件,2025年报指出"光子集成器件行业将迎来新一轮产品和技术升级周期",产品涵盖薄膜铌酸锂调制器等核心光子器件。MIT纳米级三维光子器件制造技术为光子集成提供新制造路径,公司作为光子器件龙头直接受益。5日主力净流入1.22亿。
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公司主营"产生光子"的半导体激光器件和"调控光子"的激光光学元器件,2025年报激光光学元器件收入占43.5%。先后收购德国LIMO和瑞士SUSS MicroOptics,具备全球领先微纳光学制造能力,其光子工艺平台与MIT三维纳米光子制造技术高度协同。5日主力净流入0.82亿。
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国内光器件行业龙头(连续18年入选中国光器件10强),建有"光纤通信技术和网络国家重点实验室",布局硅光集成和CPO技术。MIT新技术有望拓宽光子器件制造边界,公司作为光电子器件龙头将受益行业技术进步。
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公司积极布局OCS全光交换、全自动光子引线键合、光IO解决方案等下一代光通信产品(据2024年定增说明书),MIT三维光子器件制造技术为全光交换网络提供更高效的器件制造路径,与公司下一代光通信方向互补。
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控股子公司海富光子从事激光器业务,技术团队为海外归国人才领衔(据2025年报)。公司主营激光精密加工和3D打印服务,MIT"内爆雕刻"技术为三维精密纳米加工开辟新范式,与公司精密激光加工技术路线具有长期协同可能。
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公司塑料光纤产品在可见光区域有低损耗光学窗口(据2025年定增募集说明书),与MIT技术"可见光计算"方向同属可见光光子技术生态。业务偏向通信级塑料光纤,非直接光学计算器件,关联度为间接。