鼎龙股份：高端晶圆光刻胶产品获近千加仑新增订单
光刻机（胶）
半导体
【鼎龙股份：高端晶圆光刻胶产品获近千加仑新增订单】鼎龙股份(300054.SZ)公告称，公司控股子公司潜江新材料近期在KrF/ArF高端晶圆光刻胶领域取得订单突破，两家头部晶圆厂客户合计新增订单近1000加仑。截至公告日，公司已有8款高端晶圆光刻胶获多家国内主流晶圆厂批量订单，较一季度末新增5款。公司年产300吨KrF/ArF高端晶圆光刻胶产线于2026年3月投产后，已向客户交付数百加仑产品并顺利应用。ArF与KrF光刻胶是逻辑、存储芯片制造的核心刚需耗材，属于国内晶圆光刻胶市场价值量占比最高的两大品类。
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鼎
95%
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新闻直接受益方。公司控股子公司潜江新材料在KrF/ArF高端晶圆光刻胶领域获近千加仑新增订单，已有8款高端光刻胶获国内主流晶圆厂批量订单。年产300吨KrF/ArF产线于2026年3月投产，已布局超30款高端晶圆光刻胶。近5日主力净流出1.36亿元（主力撤退），可能前期已反映部分预期。
晶
88%
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光刻胶+配套试剂核心企业。2025年报显示光刻胶收入占比13.9%、利润占比25.2%，半导体行业收入占比65.8%。主营超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料，是微电子化学品国产化龙头。近5日主力净流入2.59亿元，资金面积极。
上
87%
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KrF/ArF光刻胶国产替代核心标的。公告显示KrF厚膜光刻胶项目已通过客户认证并产生销售收入，ArF干法光刻胶产线已投入运行。2025年报集成电路材料收入占比76.3%，已建成I线、KrF、ArF干法、ArF浸没式完整研发平台。近5日资金面中性。
恒
86%
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光刻材料收入占比77.6%（2025年报）。SOC、BARC、KrF光刻胶等已有多款产品量产供货，ArF光刻胶已进入客户验证流程，ArF浸没式光刻胶已通过验证并小规模销售。与境内主要12英寸晶圆厂形成良好合作关系，是高端光刻胶国产替代直接标的。
彤
82%
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国内半导体和显示面板光刻胶等电子化学品领先企业。2025年报自产电子材料产品收入占比26.9%、利润占比33.1%。公司简介明确提及'国内半导体和显示面板光刻胶等电子化学品领先企业'。近5日主力净流出6381万元。
强
78%
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光刻胶专用化学品龙头。主营产品包括光刻胶用光引发剂（光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。2025年报半导体光刻胶光引发剂收入占比6.7%（利润10.6%），LCD光刻胶光引发剂利润占比40.1%。公司为全球电子材料专用化学品领军企业，高端光刻胶放量将直接拉动其上游原料需求。
江
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光刻胶配套试剂核心供应商。2025年报光刻胶配套试剂收入占比35.3%、利润占比39.5%，产品包括与KrF、ArF光刻胶配套的显影液、剥离液、稀释剂等。被工信部列入'关键战略材料'名单，是光刻胶工艺不可或缺的配套材料。
南
74%
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光刻机（胶）+电子特气双概念。主营先进电子材料，特种气体收入占比59.4%（2025年报），MO源产品27.6%。具备光刻机（胶）和电子特气双重受益逻辑，已开发多款应用于IC行业的先进电子化学品。
兴
74%
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光刻胶配套湿电子化学品供应商。产品包括显影液、剥膜液等功能湿电子化学品，功能湿电子化学品收入占比16.6%（2025年报）。集成电路行业收入占比84.6%，是国内半导体材料十强企业。高端光刻胶用量增加将直接带动显影液等配套试剂需求。
盛
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涂胶显影（Track）设备供应商。2025年报显示公司前道涂胶显影Ultra Lith™ Track设备支持i-line、KrF和ArF系统，首台高产能KrF工艺前道涂胶显影设备已于2025年9月交付中国头部逻辑晶圆制造厂。光刻胶用量增加将带动涂胶显影设备需求增长。
芯
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前道涂胶显影设备国产龙头。2025年报前道涂胶显影领域持续开展机台导入与高端工艺验证，前道清洗领域物理清洗机保持国内龙头地位。公司与光刻胶为核心配套关系，KrF/ArF光刻胶国产化放量将带动国产涂胶显影设备需求。
龙
68%
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半导体掩模版（光罩）供应商。2025年报石英掩模版收入占比83.2%，半导体掩模版行业收入占比99.8%。掩模版与光刻胶为光刻工艺核心配套关系，KrF/ArF掩模版产品正向40nm-28nm制程突破。公司是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。
久
62%
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全球产量最大的光引发剂供应商。产品包括光引发剂（收入占比77%）、光敏剂、光刻胶等。已布局光刻胶中间体建设项目，投产784光引发剂用于PCB光刻胶。但电子化学品收入占比仅1%，主要收入来自光固化领域，与高端晶圆光刻胶的直接传导链较弱。