三星电子美国得州泰勒市2nm晶圆厂进入试运营阶段，启动EUV光刻机调试

刚刚收到一个重磅消息，三星电子在 美国得克萨斯州泰勒市的2nm晶圆厂进入试运营阶段了，EUV光刻机的测试已经正式启动，蚀刻和沉积设备也在分阶段导入。 说白了，这就是三星在先进制程上的一次大动作。工厂计划今年内实现初步运营，2027年全面投产。这意味着全球半导体竞争又要加速了，尤其是2nm这种最前沿的工艺。 这个消息对产业链影响挺直接的。首先半导体设备这块，EUV光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备这些关键装备的需求会明显增加，咱们国内相关设备厂商也值得关注。其次，电子特气像二氯二氢硅这种材料，在沉积工艺里是少不了的，需求也会跟着上来。还有洁净室建设，这是先进制程芯片制造的基础设施。

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