阿斯麦计划在2026年约65台低数值孔径（Low-NA）EUV光刻机产能基础上，2027年增加30%产能；公司正在研究2028年再增加30%产能的可行性。
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公司氩氙氖光刻气已通过ASML子公司Cymer合格供应商认证并列入合格气体供应商清单（2025年报公告）。ASML Low-NA EUV从65台增至约110台，每台EUV运行均需光刻气维护，需求直接正比于装机量。公司电子特种气体收入占比85.2%，集成电路与显示行业收入占比79.8%，是ASML扩产最直接受益的A股标的。
永
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公司2025年报公告明确：产品已切入光刻机对准系统、照明系统等核心环节，在手订单快速增加。公告指出中国从荷兰进口的光刻机几乎完全来自ASML，国产光刻机产业链快速成形。公司光学元件组件收入占比60.5%，精密光学制造能力获国际头部客户认证，直接受益于光刻机扩产带动的光学元件需求增长。
芯
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公司2025年报公告明确：前道涂胶显影设备是集成电路制造关键设备，主要与光刻机配合作业，验证后客户粘性极强。公告直接引述'全球光刻机龙头厂商ASML推出的新一代EUV系统'。ASML扩产→全球先进制程产能增加→晶圆厂扩产配套设备需求增长。公司电子工艺装备收入占比96.4%，概念板块含'光刻机（胶）'，为光刻机核心配套设备商。
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公司2025年报公告显示：滤光片、白光三角3D测量传感器等产品已成功导入全球顶尖光刻机客户。公司为光刻机等先进制造设备提供精密光学元件，'先进制造与检测领域'收入占比11.4%、利润占比15.0%。ASML EUV扩产将直接拉动光刻机光学元件的采购需求。
凯
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公司2025年报公告显示：光刻气产品已获得ASML子公司Cymer公司、日本GIGAPHOTON株式会社认证，有助于提高电子特气领域认可度并拓展销售。概念板块含'光刻机（胶）'。ASML EUV扩产将增加光刻气消耗量。注意：公司特种气体收入占比仅2.1%，短期利润贡献有限。
茂
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公司专注于精密光学器件、高端光学镜头和先进光学系统，概念板块含'光刻机（胶）'。精密光学器件是光刻机光学系统的核心组件，公司作为国际前沿的精密光学综合解决方案提供商，有望受益于ASML EUV扩产带动的上游光学元件需求增长。但缺少直接供应ASML的公告证据，评分适度下调。
鼎
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公司'年产300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目'于2026年3月建成投产，布局超30款高端晶圆光刻胶，已有多款实现稳定批量供应。概念板块含'光刻机（胶）'。ASML EUV扩产推动先进制程扩张，将带动高端光刻胶材料需求。传导距离稍远（材料端），半导体业务收入占比57.0%。