【阿斯麦宣称英特尔采用其最先进光刻机生产芯片】财联社7月15日电，阿斯麦控股公司表示，英特尔公司已开始使用其最先进的机器进行芯片生产，显示这种新设备已准备好被广泛采用。两家公司在联合声明中表示，英特尔将依靠阿斯麦的EXE高数值孔径极紫外线光刻机来生产其Ultra 3系列芯片的部分产品。这台新设备代表了阿斯麦用于生产先进芯片的最新技术。这对阿斯麦来说是一次关键性的胜利。新款高数值孔径机器一直被批评价格过高，难以被主流市场接受，而英特尔的采用或许有助于扭转这种看法。台积电曾表示，最新一代阿斯麦机器太贵，不适合大规模生产，未来某个时候才会转向采用该技术。
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芯
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2025年报明确记载'ASML推出的新一代EUV系统，其第二代高数值孔径EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200B实现首台交付并开始客户验证'，与新闻中英特尔采用的EXE高数值孔径EUV光刻机为同一设备。公司涂胶显影机是产线上唯一与光刻机联机作业的设备，直接配套ASML光刻机，半导体设备收入占比96.4%。
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交银国际2026-05-06研报直接关联本次事件：台积电推迟High-NA EUV光刻机，意味着刻蚀和薄膜沉积设备重要性上升。公司是国内最大的半导体设备龙头，电子工艺装备收入占比93.3%，覆盖刻蚀、薄膜沉积、清洗等核心环节，先进制程扩产直接拉动设备需求。
先
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2025年报明确列示'半导体光刻机设备精密零部件开发'研发项目，已实现稳定供货。公司是国内半导体刻蚀和薄膜沉积设备关键零部件的精密制造专家，半导体收入占比96.5%，是国内少数可量产7nm及以下制程刻蚀设备关键零部件的供应商。
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2025年报明确阐述EUV掩膜版'可适配ASML EUV光刻机的高能量照射需求，保障先进制程芯片的图案转移稳定性'。公司是国内领先的第三方掩膜版厂商，石英掩膜版收入占比91.6%，EUV光刻机规模化采用将直接拉动EUV掩膜版需求。
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2025年报披露，公司超精密光学元件及滤光片等产品'已成功导入全球顶尖光刻机客户'（全球顶尖光刻机厂商指ASML）。公司具备光机电算一体化光学解决方案能力，光学镜头及元件收入占比94.2%，与海康威视、大华、华为等建立稳定合作。
晶
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公司2020年购买了ASML1900 Gi型光刻机及配套设备，已建成ArF、KrF光刻实验室用于高端光刻胶研发。光刻胶收入占比13.9%（毛利率最高达25.2%），半导体行业收入占比65.8%。先进制程推进将直接拉动ArF/EUV光刻胶国产替代需求。
福
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全球知名LBO晶体、精密光学元件龙头厂商，精密光学元件收入占比39.3%，国外收入占比34.6%。产品被海内外知名激光器和光模块公司广泛采用，公司超精密光学元件已切入半导体设备领域，通过国际光学企业供应链间接进入ASML配套体系。
茂
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公司是国际前沿精密光学综合解决方案提供商，精密光学器件收入占比43.8%，国外收入占比56.6%。公司产品可应用于半导体光刻设备领域，概念板块含'光刻机（胶）'，具备为光刻机提供精密光学系统和镜头的能力。
永
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精密光学元件组件收入占比60.5%，国外收入占比46.8%。公司是蔡司、徕卡等国际光学巨头的重要供应商，该等企业为ASML光刻机提供光学系统组件。2025年报专门论述了ASML光刻机进口情况和光刻机市场规模，公司光学元件间接进入光刻机供应链。
蓝
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通过收购德国杜尔集团旗下Ecoclean成为全球工业清洗系统龙头，国外收入占比92.3%，与众多国际知名半导体设备企业建立长期稳定业务关系。公司概念板块含'光刻机（胶）'，其超洁净工业清洗系统应用于光刻机精密零部件的表面处理环节。