【瑞银：阿斯麦的需求可见度异常长远】瑞银分析师在与阿斯麦首席财务官罗杰·达森举行线上路演后表示，阿斯麦计划在2027年和2028年提高其半导体制造设备的产量，这表明需求可见度异常长远。阿斯麦正考虑在2027年将其极紫外光刻机的产量提高约30%，并在2028年再提高30%，因为客户已经下达了大量订单。分析师表示，这种异常长远的可见度强化了这样一种观点，即半导体需求可能会在很长一段时间内超过供应。
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华
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ASML光刻气直接供应商。公司2025年报明确披露：多款稀混光刻气是国内唯一一家同时通过荷兰ASML公司和日本GIGAPHOTON株式会社认证的气体企业，相关产品已在各大半导体产线规模化应用。ASML计划2027/2028年EUV产量各增30%，将直接拉动光刻气需求增长。
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ASML光刻气直接供应商。公司2025年报明确披露：氩氙氖光刻气通过了ASML子公司Cymer公司合格供应商认证，列入合格气体供应商清单；同时该产品及氪氖光刻气还通过了日本GIGAPHOTON认证。ASML扩产将直接增加对公司光刻气的采购需求。
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国内前道涂胶显影设备龙头，产品需与光刻机联机作业。华创证券2026-05-04研报指出：随着ASML新一代光刻机产能提升，对与之联机作业的涂胶显影设备提出更高的产能匹配要求，公司已布局新一代涂胶显影机架构进行匹配。ASML扩产直接推动配套涂胶显影设备需求增长。
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精密光学龙头，光刻机光学系统核心零部件供应商。国金证券2026-06-09研报指出：公司通过可转债加码超精密光学产能，重点聚焦248nm与193nm DUV波段的光学器件及物镜镜头，加速推进光刻机配套元器件国产替代。ASML产能提升强化行业景气，国产光刻机光学零部件替代空间进一步打开。
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国内半导体设备平台龙头，产品覆盖刻蚀、薄膜沉积、清洗等关键环节。ASML指引2027-2028年EUV产量大幅提升，确认半导体需求长期超过供应，国内晶圆厂扩产信心增强，公司作为国产设备最大平台型供应商将充分受益于扩产周期。同时控股芯源微（持股17.87%），间接布局涂胶显影赛道。