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【有研新材:拟4.86亿元投建集成电路用高纯溅射靶材二期扩建项目】财联社7月30日电,有研新材(600206.SH)公告称,公司计划投资4.86亿元建设集成电路用高纯溅射靶材二期扩建项目...
事件直接标的,拟投资4.86亿元建设集成电路用高纯溅射靶材二期扩建项目,新增铜系靶、钽靶、钛靶产能3万块/年(2026年9月启动,2027年9月投产)。公司2025年报显示薄膜材料(含溅射靶材)为利润第一大来源,贡献49.6%利润,高纯/超高纯金属材料收入占比74.7%,靶材是公司核心主业。
国内溅射靶材绝对龙头,2025年超高纯靶材收入占比61.9%。产品覆盖铝靶、钛靶、钽靶、铜靶、锰靶、钴靶全系列,已进入台积电、中芯国际、SK海力士等全球晶圆厂供应链,2024年靶材出货量全球第一(富士经济数据)。与有研新材在集成电路靶材市场正面竞争,行业扩产信号印证靶材高景气,公司作为龙头同步受益于国产替代加速。
子公司丰联科光电(原四丰电子)生产高纯钼靶、银合金靶、ITO靶、高纯钛等溅射靶材,产品涵盖半导体光伏及IC制造用超高纯溅射靶材。2025年报靶材及超高温特种功能材料收入占比21.2%(与电子新材料合计42.4%),钛靶品类与有研新材二期扩产直接重叠,同为国产靶材中坚力量。
公司公告明确"半导体靶材背板实现铜基背板全品类覆盖,具备材料自主制备及全品种全流程批产能力,与多个行业靶材研发和制造企业形成合作关系"。靶材背板是溅射靶材关键配套部件,有研新材扩产铜系靶材将直接拉动对铜基背板的需求,公司作为靶材背板核心供应商间接受益。
主营业务为高性能溅射靶材(铜靶、铝靶、钼靶、ITO靶等),2025年溅射靶材收入占比48.3%(利润贡献76.9%)。公司正加快晶圆制造用高纯铜、高纯铝靶材的客户验证与送样,推进半导体集成电路靶材研发试制基地建设。有研新材扩产强化靶材赛道景气信号,公司作为科创板靶材新锐同步受益。
溅射靶材收入占2025年营收39.9%(利润贡献54.8%),产品涵盖金属/非金属单质、合金及化合物等多种PVD镀膜材料,已研发出应用于半导体领域的产品。公司是国内PVD镀膜材料品种较齐全的厂商,有研新材扩产作为行业景气信号,对同属溅射靶材赛道的公司形成估值提振。
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