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江苏先导首台12寸高端晶圆级光学磁控溅射设备正式交付

【江苏先导首台12寸高端晶圆级光学磁控溅射设备正式交付】据先导科技集团,7月30日,江苏先导微电子自主研发的首台Star600-EOSS 12寸高端精密光学磁控溅射量产设备,在江苏徐州高新区生产基地完成设备组装、联调,成功通过自动化与工艺验证,正式交付国内头部晶圆厂,标志着公司在高端晶圆级光学镀膜装备领域实现了从研发、制造到产业化交付的重要突破。

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事件主体江苏先导微电子与公司同属朱世会实控:2025年报关联方关系明确列示"江苏先导微电子科技有限公司(同一实际控制人)";子公司嘉芯半导体从事半导体刻蚀、薄膜沉积设备,专用设备制造占2025年收入18.8%。2026-03-21收购报告书披露先导科技认购定增、控股股东将变更为先导科技,集团半导体装备资产整合路径清晰,本次12寸晶圆级光学磁控溅射设备交付头部晶圆厂直接强化板块协同与资产注入预期。
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2025年报将PVD列为五大薄膜沉积设备之一并明示"PVD基于物理过程实现薄膜沉积,通过蒸发、溅射等方式成膜",磁控溅射为其核心产品线;电子工艺装备收入占93.3%,为国内半导体设备平台龙头。江苏先导首台12寸晶圆级光学磁控溅射设备交付头部晶圆厂,验证高端PVD国产化提速,作为同赛道最大供应商直接受益国产替代景气扩散。
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公司实控人为朱世会(先导科技集团董事长),2026-03-21先导基电收购报告书确认"朱世会持有光智科技5%以上股份";2025年报红外光学与激光材料占收入89%,为全球少数打通红外光学全产业链的平台型企业,与先导集团"光学材料→光学镀膜装备"版图(江苏先导微电子做晶圆级光学镀膜设备)构成同系产业协同,事件强化先导系光学资产价值重估。
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超高纯溅射靶材收入占61.9%(铝/钛/钽/钨钛靶),已应用于世界著名半导体厂商最先端制造工艺、16nm批量供货并满足国内28nm量产需求,为半导体溅射靶材龙头。磁控溅射设备以靶材为必需耗材,晶圆级光学磁控溅射设备国产化放量将直接带动半导体级高纯靶材配套需求增长。
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2025年报明确列示"镀膜靶材:光学镀膜磁控溅射用镀膜靶材,应用于光学光通讯靶材、半导体靶材、液晶显示靶材等";公司具备功能镀膜技术优势并布局AR光波导器件。既是晶圆级光学磁控溅射设备所需镀膜靶材的供应商,又是光学镀膜的直接用户,与新闻事件技术方向(晶圆级光学+磁控溅射镀膜)高度对口,双重受益。
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2025年报披露"年产400吨集成电路磁溅靶材用"项目在建,金靶材通过主要先进存储客户验证、国内率先小批量供货,超高纯铜/钴/钽/钨靶材适配先进制程节点;薄膜材料占收入24%。高端磁控溅射设备国产化放量将同步扩大其集成电路溅射靶材的装机与耗材需求。
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公司光学晶圆(玻璃晶圆/晶体晶圆)经切片、抛光、镀膜等工序制造,用于AR光波导等显示类应用;公告显示正建设"AR光学产品产业化建设项目"扩产12寸高折玻璃晶圆、12寸晶体类晶圆(投资额约5亿元),恰为本台12寸晶圆级光学磁控溅射设备的目标用户,国产设备供给将降低其镀膜产线资本开支并提升扩产确定性。
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2025年报溅射靶材收入占48.3%,提供铜靶、铝靶、钼及钼合金靶、ITO靶等近40种靶材,纯度达4N以上,客户含京东方、华星光电、惠科等半导体显示龙头,是国内高性能溅射靶材头部企业。磁控溅射设备放量将直接扩大其靶材配套装机与耗材需求。
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公司以ALD为核心并布局半导体PVD/CVD/ALD薄膜沉积产品线,已推出SuiR MS系列立式磁控溅射系统(PVD,用于钙钛矿等光伏领域),半导体类设备收入占33.5%。与江苏先导同处真空薄膜沉积设备赛道,晶圆级光学PVD国产化突破印证国产薄膜设备需求扩张逻辑。
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国内半导体设备精密零部件领军企业,产品涵盖工艺零部件、结构零部件、模组和气体管路,集成电路行业收入占84.5%,是北方华创等国产设备商的精密零部件供应商。磁控溅射设备国产化放量将直接拉动其腔体、管路等精密零部件订单。
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液体恒温设备(占2025年收入70.9%)应用于半导体晶体生长、刻蚀、PVD/CVD等环节的严苛温度控制,为薄膜沉积设备提供温控配套。磁控溅射设备量产交付带动国产设备链扩张,其半导体温控业务有望同步受益。