阿斯麦核心供应商蔡司：有信心满足需求 启动总部扩建与新建厂
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2025年报将"光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术"列为九大核心关键技术并已产业化；2025年11月发行可转债募资5.63亿元加码248/193nm DUV波段光学器件及物镜镜头，服务深紫外光刻机高精度投影与照明系统（国金证券2026-06-09深度报告），是A股最直接对标蔡司光刻机光学环节的标的。精密光学元件收入占比43.8%，外销占比56.6%。
2025年报披露：公司是国内唯一一家多款稀混光刻气（其中2款含微量氟）同时通过荷兰ASML公司和日本GIGAPHOTON认证的气体企业，"国内仅两家能通过ASML认证的光刻气供应商之一"。光刻及其他混合气体为第一大产品，收入占比22%、利润占比28.2%；ASML/蔡司扩产直接拉动光刻气需求放量，并已进入台积电、英特尔、三星供应链。
2025年报披露：滤光片、白光三角3D测量传感器等产品已成功导入"全球顶尖光刻机"（ASML为全球唯一EUV光刻机厂商）、半导体刻蚀设备、量检测设备客户；通过收购戴斯光电切入超精密光学元件，2025年光学元件收入占比14.3%、先进制造与检测领域收入占比11.4%，直接受益于ASML/蔡司光刻机产能扩张带动的上游光学元件需求。
2025年报：半导体光学业务高速增长，产品应用覆盖光刻、量检测等关键环节，光刻机核心子系统相关元组件项目稳步落地，已进入国产头部设备商一供体系（国海证券2026-04-27点评）；2025年光学元件营收5.84亿元（同比+13.71%）、毛利率38.78%。蔡司/ASML产能扩张强化光刻机光学元件国产替代逻辑。
2025年报披露：氩氙氖光刻气通过ASML子公司Cymer合格供应商认证并列入合格气体供应商清单，氩氙氖/氪氖光刻气同时通过日本GIGAPHOTON认证；电子特种气体收入占比85.2%、集成电路与显示行业收入占比79.8%，ASML扩大EUV光刻机产能带动其光刻气及含氟特气需求增长。
2025年报披露：为适配7nm及以下先进制程，掩膜版向EUV方向迭代，EUV掩膜版采用合成石英玻璃衬底+MoSi多层膜设计，"可适配ASML EUV光刻机的高能量照射需求"；EUV技术导入显著提升单张掩膜版制造难度与价值量。公司为国内第三方掩膜版龙头，石英掩膜版收入占比91.6%，直接受益于EUV扩产周期。
2025年报披露：光刻气产品已获得ASML子公司Cymer公司、日本GIGAPHOTON株式会社认证，具备ASML光源（光刻机激光光源）供应链资质，ASML扩产利好其光刻气产品国际化拓展；但公司特种气体收入占比仅2.1%（2025年报），光刻气对业绩弹性有限，明显弱于华特气体、中船特气。
2025年9月公司推出首款KrF前道涂胶显影设备Ultra Lith KrF，公告披露其具备与ASML光刻机匹配的关键尺寸（CD）精度，首台设备已交付中国头部逻辑晶圆厂；ASML扩大EUV/DUV光刻机产能带动光刻配套涂胶显影（Track）设备需求，但公司收入99.4%来自中国大陆客户，以国产替代逻辑传导为主，关联偏间接。