晶升股份自主研发大尺寸CVD SiC涂层成套设备完成交付

公司自主研发的大尺寸CVD SiC化学气相沉积涂层成套设备完成交付，标志着在碳化硅涂层工艺装备领域取得重要突破，为半导体热场关键部件国产化提供支撑。公司2025年报显示，其碳化钽涂层石墨件采用CVD工艺制备，涂层纯度达99.999%以上，可延长石墨件使用寿命。

全球领先的碳化硅衬底制造商，需要碳化硅晶体生长设备及热场部件。晶升股份是其潜在的设备供应商，CVD SiC涂层设备可提升热场部件耐腐蚀性和寿命，降低维护成本。公司2025年报显示，碳化硅衬底收入占比99.6%，是国内8英寸碳化硅衬底主要供应商。

国内重要的碳化硅衬底制造商，碳化硅涂层设备可应用于其衬底生产过程中的热场部件，提升生产效率。公司2025年报指出，碳化硅衬底业务是其重点发展方向，2025年行业全面迈入规模化爆发期。

从事碳化硅衬底的研发和销售，是国内碳化硅衬底厂商之一。碳化硅涂层设备可为其提供更耐用的热场部件，降低生产成本。公司2025年报提及，全球碳化硅衬底市场中国占比提升，公司战略性收缩衬底生产规模聚焦技术研发。

拥有碳化硅衬底、外延片到芯片的全产业链布局，是碳化硅产业龙头。CVD SiC涂层设备可用于其衬底和外延生产环节的热场部件，提升国产化水平。公司2025年报显示，碳化硅业务是其重要增长点，产品涵盖碳化硅衬底/外延。

国内先进的碳基复合材料供应商，为光伏、半导体等领域提供热场系统。其碳化硅陶瓷制品可能用于半导体热场部件，晶升股份的CVD涂层设备可为其提供涂层加工服务或设备。公司2025年报显示，半导体光伏及半导体材料收入占比21.8%。

国内电子特种气体龙头，产品包括前驱体等CVD工艺关键原材料。晶升股份CVD涂层设备的交付可能增加对电子特气的需求。公司2025年报显示，电子特种气体收入占比85.2%，前驱体系列是化学气相沉积（CVD）的关键原材料。