小摩称阿斯麦拟在2028年生产超过110台EUV光刻机
关联股票
2025年年报明确披露'产品广泛应用于光刻设备、半导体光学量/检测设备等关键制程装备，并切入光刻机对准系统、照明系统等核心环节，在手订单快速增加'。ASML每台EUV光刻机包含复杂的对准系统与照明光学系统，永新是国内少数切入该环节的精密光学企业。公司还指出'中国从荷兰进口的光刻机几乎完全来自ASML，中国大陆净销售额从2020年的29.2亿美元增长至2025年的106.2亿美元'，ASML扩产将直
2025年年报明确提到'全球光刻机龙头厂商ASML推出的新一代EUV系统已实现更高分辨率与更严苛的精度控制要求'，并指出'涂胶显影机作为半导体产线上唯一与光刻机联机作业的重要设备，其技术演进方向需紧密适配主流光刻机的技术发展路径'。公司表示'随着光刻机产能的不断提升，公司已布局新一代涂胶显影机架构进行匹配'，即ASML每增加一台EUV出货，晶圆厂需要配套相应涂胶显影设备。2025年电子工艺装备收入
公司2017年收购德国LIMO GmbH，2024年收购瑞士SUSS MicroOptics SA（现Focuslight Switzerland），后者是全球半导体光刻光学元器件知名供应商。公司年报显示'泛半导体制程解决方案产品'占收入9.9%，为EUV/DUV光刻系统提供激光光源和精密光学元组件。2025年国外收入占比53%，与欧洲半导体设备产业链深度绑定。ASML每台EUV约需数十个高精度光
国内半导体设备精密零部件领军企业，年报明确表示'是国内少有的能够提供满足甚至超过国际主流客户标准的精密零部件产品的供应商'，核心产品包括工艺零部件、结构零部件和气体管路，应用于国际主流半导体设备商。ASML扩产110台EUV将大幅增加对精密零部件的采购量。2025年集成电路及贸易行业收入占比84.5%，利润占比91.2%。公司具备机械制造、表面处理、焊接及气体传输系统集成的全链条核心技术。
2025年年报明确提到'掩膜版技术向EUV掩膜版方向迭代'，并指出产品'可适配ASML EUV光刻机的高能量照射需求，保障先进制程芯片的图案转移稳定性'。EUV掩膜版是EUV光刻工艺的核心耗材，每台EUV光刻机的量产运营需要大量配套掩膜版。ASML将EUV产量从65台提升至110台以上，EUV掩膜版需求将同步大幅增长。公司是国内领先的第三方掩膜版厂商，石英掩膜版占收入91.6%。
公司是国内精密光学综合解决方案引领者，提供精密光学器件、高端光学镜头和先进光学系统。年报提及'超精密运动与光学系统深度融合，通过纳米级精度控制、主动补偿、原位闭环实现光学性能的动态优化'，这与EUV光刻机对超精密光学系统的要求高度一致。2025年国外收入占比56.6%，具备为全球半导体设备商供应精密光学系统的能力。概念板块包含'光刻机（胶）'。
公司前道涂胶显影Ultra Lith Track设备'支持主流光刻机接口，支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺'，年报明确表示'公司首台高产能力KrF工艺前道涂胶显影设备已于2025年9月顺利交付中国头部逻辑晶圆制造厂'。涂胶显影机是与光刻机1:1配套的核心设备，ASML扩产将同步拉动配套Track设备需求。2025年半导体设备收入占比95.8%。
方正证券2026年5月研报指出，公司通过参股米莱芯程切入光刻机赛道。米莱芯程创始人高安曾在ASML任职，参与DUV和EUV投影式光刻机相关工作（EUV中负责掩模板污染检测，DUV中负责硅片对准传感器），2018年底回国参与光刻机专题项目研发，曾任浸没式光刻机产品技术总工。公司已设立合资公司启辰半导体进军光刻胶材料领域。概念板块为'光刻机（胶）'。
公司2020年启动集成电路制造用高端光刻胶研发项目，已购买ASML 1900Gi型光刻机及配套设备，建成ArF/KrF光刻实验室。2025年光刻胶占收入13.9%、占利润25.2%。年报指出'在KrF、ArF/ArFi、EUV等中高端光刻胶领域，国内大多企业还在积极研发验证中'。ASML扩产带动EUV光刻机出货增加，将加速对高端光刻胶的需求，公司是国内少数布局ArF/EUV光刻胶的企业之一。
公司'年产300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目'于2026年3月建成投产，公告称'ArF和KrF光刻胶产品在国内实现全制程与全尺寸覆盖'，建有国内首条'有机合成-高分子合成-精制纯化-光刻胶混配'全流程高端晶圆光刻胶量产线。2025年半导体业务占收入57%。ASML扩产将提升下游晶圆厂光刻胶消耗量，公司在KrF/ArF国产替代中处于领先地位。