中微公司薄膜沉积及外延设备取得重大进展，先进逻辑10nm以下布局全面

中微公司在分析师会议表示，PECVD设备具备16个反应台配置，输出量较国内外标配设备提升80%到100%；CuBS PVD设备输出率提升50%至100%，已交付至国内先进逻辑器件研发线验证中。减压外延设备已付运到先进制程客户端进入量产验证阶段，常压外延设备也在进入晶圆验证阶段。前三季度DRAM客户订单保持高于公司整体订单的增速，NAND和DRAM客户订单合计占比在60%左右。公司在先进逻辑10nm以下各个节点有全面的布局，产品验证顺利。