清溢光电：控股子公司拟不超15亿元投建高端半导体掩膜版生产基地建设项目三期

公告主体。控股子公司佛山清溢微（公司持股95.86%，2025年5月已用募集资金5亿元+追加1亿元增资）投建高端半导体掩膜版基地三期，总投资不超15亿元，产品覆盖28nm-14nm。2025年报石英掩膜版收入占比93.0%、掩膜版行业收入99.3%，一期已投产、二期推进中。公告当日主力净流出683万元、5日累计净流出1416万元，市场对15亿元高端扩产尚未充分定价。

国内第三方掩膜版龙头，2025年报石英掩膜版收入占比91.6%、掩膜版行业收入100%。路芯半导体掩膜版一期覆盖130-40nm，40nm与28nm单片掩膜版已客户端验证并供货，二期布局28-14nm计划2026年陆续投建，与清溢三期产品节点完全重叠。2025年营收11.55亿元同比+31.94%（中邮证券2026-04-30研报）。近5日主力净流入3827万元。

稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商，半导体掩模版收入占比99.8%。2026年3月24日科创板定增预案明确投向40nm-28nm高端制程掩膜版产线，公告称40-28nm制程第三方市场"境外厂商基本垄断"，项目将具备28nm制程能力填补国内空白——与清溢光电三期同一细分赛道、同一制程区间正面竞争。

上游空白掩膜基板国产化关键玩家。2025年9月宣布以约3.5亿元现金收购韩国SKE旗下Blank Mask事业部，2026年4月初交割完成，产品为DUV-ArF与DUV-KrF光刻节点的空白掩模基板，正是28nm-14nm高端掩膜版的核心基材；中泰证券2026-05-07研报称已与国内主要掩膜版厂建立供应商代码并部分进入测试。近5日主力净流入9608万元。

宁波冠石光掩膜版制造项目2024年7月首台电子束光掩膜版光刻机交付，2025年3月实现55nm交付验证及40nm产线通线，2025年12月28nm光刻机顺利交付，2026年4月再融资继续加码半导体光掩膜版。公司问询函回复引中国电子协会数据称半导体光掩膜版整体国产化率约10%、高端仅3%。但2025年报光掩膜版收入占比仅1.2%且尚亏损，弹性大基数小。

2025年报披露推出国内首创10.5代TFT-LCD光掩膜基板，子公司合肥光微光掩膜基板精密加工项目建成投产，"填补光掩膜版精加工领域的国内空白，有效完善国内光掩膜版行业的产业链"；2025半年报称该项目已具备批量供货能力并实现小批量出货，是掩膜版厂商石英基板的本土可选供应方。近5日主力净流出1.08亿元，资金面偏弱。

清溢光电2025年报及2025年5月上市保荐书点名的半导体芯片掩膜版典型客户（列首位）。公司为国内领先的8/12寸MEMS与功率器件晶圆代工厂，掩膜版是光刻工序刚需母版，其经营范围亦含"光刻掩膜版开发制造"；清溢28-14nm产能落地可缩短其高端掩膜版交期、降低进口依赖。

清溢光电2025年报与2025-05上市保荐书点名的半导体掩膜版客户。公司为国内规模最大IDM之一，芯片产线已实现从5吋到12吋跨越并拓展化合物产线，集成电路收入占比37.7%，自制晶圆光刻需持续采购掩膜版，高端掩膜版本土配套直接利好其12寸线扩产。

清溢光电2025年报点名的半导体芯片掩膜版客户之一。公司在厦门、鄂州、长沙等地布局化合物半导体与集成电路代工，集成电路芯片收入占比16.2%，掩膜版为其晶圆制程关键耗材；本土高端掩膜版扩产有助于其特色工艺线供应链安全。

清溢光电2025年报列示的半导体芯片掩膜版典型客户（IC Bumping/IC载板掩膜版方向）。公司是国内封测龙头，先进封装对凸块、重布线层掩膜版需求量大，清溢佛山基地全面满足8/12寸晶圆厂及配套封测掩膜版需求，公司为其稳定下游出海口之一。