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三星电子开始出货业界首款12层HBM4E样品

内存 高带宽存储器HBM 半导体
三星电子宣布已开始向全球主要客户出货业界首款12层堆叠HBM4E样品,继今年早些时候率先量产并商业出货HBM4后,进一步扩展HBM路线图,以满足AI计算和超大规模基础设施快速演进的需求。

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2025年报披露为HBM核心TSV刻蚀工艺提供高端电子特气,已进入三星、SK海力士、美光等全球半导体龙头供应链。年报引用数据:2026年HBM市场规模546亿美元(+58%),三星将70%新增产能投向HBM,公司直接受益于HBM爆发。
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概念板块明确包含"高带宽存储器HBM",公司是SK海力士(全球第二大HBM厂商)核心授权分销商,代理产品覆盖HBM等高端存储芯片,分销业务收入占比94.2%。
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概念板块含"高带宽存储器HBM",2025年报分析HBM市场(Gartner数据:2025年HBM市场规模307.5亿美元,同比超100%),指出2026年HBM4从送样迈向量产,公司布局研发封测一体化。
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概念板块含"高带宽存储器HBM",2025年报披露其薄膜沉积设备是实现"HBM等先进存储领域芯片技术突破的核心支撑",HBM4E的3D堆叠结构需要大量薄膜沉积工艺。
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概念板块含"高带宽存储器HBM",国产等离子体刻蚀设备龙头,HBM的TSV深沟槽刻蚀高度依赖刻蚀设备,12层堆叠对刻蚀精度要求更高,HBM4E量产拉动刻蚀设备需求。
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2025年报指出"2.5D/3D封装成为AI服务器、HBM及高性能计算需求外溢的主要载体",公司拥有全球领先的TSV晶圆级封装技术,与HBM的核心工艺(TSV+3D堆叠)高度契合。
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概念板块明确包含"高带宽存储器HBM",半导体材料业务收入占比31.4%,涵盖半导体前驱体、电子特气等HBM制造关键材料,前驱体是TSV和薄膜沉积工艺必需品。
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2025年报披露拥有2.5D异构集成、TSV硅通孔技术等HBM相关核心技术,公告直接提及HBM。公司与AMD深度绑定,AMD的AI加速器采用HBM内存,封装测试收入占比97.6%。
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2025年报披露拥有2.5D/3D封装、晶圆级封装等先进封装技术,广泛应用于AI、高密度存储领域。HBM4E的12层堆叠与GPU集成需要2.5D/3D先进封装,公司为全球第三大封测企业。
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概念板块含"高带宽存储器HBM",直写光刻设备用于先进封装TSV、RDL等HBM核心制程,年报披露2.5D/3D封装市场规模高速增长,PLP系列设备可支持2.5D/3D封装。
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公告明确将HBM纳入目标市场,重点围绕"存储(DDR、HBM等)、高算力、人工智能"拓展测试服务,HBM4E的12层堆叠复杂度增加,对芯片测试需求成倍提升。
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2025年报指出"HBM存储器封装带动TSV材料、ABF载板、高导热界面材料等高端品类需求激增",集成电路封装材料业务收入占比16.2%,HBM4E先进封装工艺带动材料需求。
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2025年报指出"CoWoS与HBM高带宽内存融合进一步深化,直接带动先进封装专用掩模版需求持续爆发",公司是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商,HBM4E封装工艺需要大量掩模版。
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国内AI芯片龙头,云端智能芯片收入占比99.7%。HBM4E是AI算力芯片的关键配套高带宽内存,12层堆叠带来更高带宽和更低功耗,有利于国内AI芯片厂商获得更好的存储配套。