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SK海力士开始供应下一代面向AI的存储器“HBM4E”12层堆叠样品

内存 高带宽存储器HBM
【SK海力士开始供应下一代面向AI的存储器“HBM4E”12层堆叠样品】财联社6月18日电,SK海力士18日宣布,公司已向主要客户供应12层HBM4E样品,该产品是面向人工智能(AI)的下一代超高性能DRAM。其引脚速率最高可达16Gbps,并将能效提高20%以上,提升了AI训练和推理所必需的数据处理能力。

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子公司海太半导体与SK海力士签署《第四期后工序服务合同》,专门为SK海力士提供半导体后工序(封装测试)服务,2026年度日常关联交易预计持续。海太半导体对SK海力士应收账款规模超8,500万美元。HBM4E放量将直接增加海太后工序业务量。
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子公司联合创泰是SK海力士官方授权分销商,拥有SK Hynix、MTK等一线品牌代理资格。公司概念板块含"高带宽存储器HBM",2025年报显示电子元器件分销收入占比94.2%。近5日主力净流入约25.9亿元,资金反应积极。
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已进入SK海力士全球供应链体系(进入英特尔、美光、台积电、SK海力士等)。年报明确"深度布局HBM产业链,为其关键的TSV工艺提供先进刻蚀气体",精准卡位HBM制造核心环节。
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硅零部件产品已直接进入SK海力士(大连)等主流存储芯片制造厂(持续督导报告原文)。公司是半导体刻蚀用硅电极、硅环核心耗材供应商,HBM产能扩张将带动硅零部件用量提升。
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国内封测龙头,公告显示其先进封装技术通过TSV与硅中介层技术实现HBM。全球九大生产基地,国家大基金持股。HBM4E量产需要大量先进封装产能,直接受益于HBM封装需求爆发。
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半导体前驱体材料是HBM制造关键材料,概念板块含"高带宽存储器HBM"。半导体业务收入占比31.4%、利润占比42.1%。前驱体在DRAM和HBM的ALD/CVD沉积中必需,HBM4E产能扩张将拉动需求。
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拥有TSV清洗设备,应用于2.5D/3D先进封装工艺中HBM的硅通孔清洗。概念板块含"高带宽存储器HBM"。TSV清洗设备具有高效温度控制能力,是HBM封装产线必备设备。
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拥有领先的TSV晶圆级封装技术,公告指出"3D堆叠技术利用TSV实现垂直互连,驱动2.5D/3D封装成为HBM及高性能计算需求的主要载体"。TSV技术是HBM堆叠的核心工艺。
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已量产适用于TSV工艺的铜互连电镀添加剂,深宽比可达20:1。年报明确"TSV技术作为先进封装核心工艺,通过与2.5D/3D封装融合成为推动芯片性能提升的关键路径",直接受益于HBM TSV工艺扩产。
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年报明确指出"HBM存储器封装带动TSV材料、ABF载板、高导热界面材料等高端品类需求激增"。集成电路封装材料收入占比16.2%,利润占比25.3%,提供HBM封装用电子级粘合剂和功能性薄膜材料。
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正在研发"HBM存储芯片集成化测试系统与软件协同开发"项目(董事会决议公告),是国内知名独立第三方芯片测试服务商。HBM4E量产前需严格芯片测试验证,测试需求将随出货量同步增长。
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年报深入分析HBM市场,指出"HBM4正从送样验证迈向大规模量产",并披露已构建覆盖2.5D、Chiplet、RDL等先进封装技术平台。受益于HBM带动存储行业景气上行及先进封装能力溢价。
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内存接口芯片全球龙头,MRCD/MDB芯片支持12800MT/s传输速率,为下一代计算平台提供内存带宽提升方案。HBM4E推动AI算力升级将同步拉动DDR5内存模组及其接口芯片需求,内存接口芯片收入占比94.2%。