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华海清科发布2026年度向特定对象发行A股股票预案(二次修订稿),发行对象为不超过35名特定对象,发行股票数量不超过4947.31万股,募集资金总额不超过37.95亿元。扣除发行费用后拟...
本次定增事件主体,CMP设备国内龙头(市占率超80%),2025年收入CMP设备占比87.2%。拟定增募资37.95亿元投向上海集成电路装备研发制造基地(13.42亿)、晶圆再生扩产(4.45亿)、高端半导体装备研发(20.08亿),已获董事会、股东会及国资批复。近10日主力净流入1.64亿元,资金面支撑。
国内唯一全面掌握CMP抛光垫全流程核心技术的供应商,CMP抛光垫月销量突破4万片,2025年抛光垫收入10.91亿元、CMP抛光液及清洗液收入2.94亿元。华海清科CMP设备扩产直接拉动抛光垫/抛光液耗材需求,作为国内核心耗材供应商深度受益。半导体业务收入占比已达57%。
国内CMP抛光液龙头,化学机械抛光液收入占比81.5%,上海本地企业。华海清科CMP设备扩产及晶圆再生扩产(4.45亿)将显著拉动CMP抛光液需求。公司已建宁波CMP抛光液产能,为国内主流晶圆厂和CMP设备商核心材料供应商。近10日资金面中性偏稳,境外持仓比例达18.89%。
刻蚀/CVD设备龙头,上海本地企业,与华海清科同属上海半导体设备第一梯队。华海清科37.95亿定增扩产释放行业高景气信号,叠加中微公司自身亦在并购扩张(发行股份购买资产),国产替代加速趋势下双龙头共振。近10日主力净流入3.66亿元,资金面强劲。
国内综合性半导体设备平台龙头,电子工艺装备收入占比93.3%,产品覆盖刻蚀、薄膜沉积、清洗、离子注入等全链条。华海清科定增扩产验证国产设备行业高景气,北方华创作为赛道龙头同步受益于下游晶圆厂扩产和设备国产化加速趋势。
上海本地半导体清洗设备龙头,半导体设备收入占比95.8%,同时布局无应力抛光(CMP相关)技术,与CMP工艺形成配套协同。华海清科上海基地建设(13.42亿)强化上海半导体产业集群效应,盛美上海地处上海直接受益于区域产业链集聚。
半导体材料供应商,集成电路材料收入占比76.3%,产品涵盖CMP研磨液(抛光液),属CMP关键耗材。地处上海,与华海清科上海基地同区域,华海清科扩产将带动上游CMP材料需求增长。公司半导体业务持续扩产,CMP研磨液为晶圆制程用量最大的电子化学品之一。
国内PECVD/ALD薄膜沉积设备龙头,半导体专用设备收入占比96.6%,与华海清科同属前道半导体设备核心赛道。华海清科定增37.95亿体现国产设备高景气度,拓荆科技作为薄膜沉积领域龙头同步受益于晶圆厂扩产潮。
国内涂胶显影设备龙头,电子工艺装备收入占比96.4%,与华海清科同属半导体前道设备阵营。华海清科扩产强化国产设备板块景气度,芯源微作为光刻配套设备领军企业受益于行业整体扩产趋势。
上海本地泛半导体企业,高纯工艺系统(收入80.3%)+湿法清洗设备,泛半导体业务收入占比92.6%。华海清科上海集成电路装备研发制造基地(13.42亿)建设将带动上海半导体产业链上下游需求,至纯科技作为上海本地配套服务商有望获益。
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