中国国资背景公司首次制造浸没式DUV光刻机，计划今年生产5台、2027年达20台
据The Information报道，一家中国国资背景的公司已首次开始制造芯片生产中的关键设备——浸没式深紫外（DUV）光刻机（GKJ），今年计划生产5台，目标2027年达20台。该公司总部位于上海，汇集了包括上海宇量昇科技（深圳新凯来持股50%）在内的研发团队。此为中国在半导体制造核心设备领域的重大突破，将加速国产替代进程，相关供应链企业有望受益。
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芯
92%
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芯源微2025年报明确其前道涂胶显影设备是光刻机配套核心设备，"主要与光刻机配合进行作业"，且产品已覆盖"ArF浸没式"工艺类型（与本次浸没式DUV光刻机直接对应），是国内唯一可提供量产型前道涂胶显影机的厂商。半导体设备收入占比96.4%，国产光刻机放量将直接拉动其设备需求。
永
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永新光学2025年报披露：在超精密光学领域，产品"广泛应用于光刻设备、半导体光学量/检测设备等关键制程装备，并切入光刻机对准系统、照明系统等核心环节，在手订单快速增加"。公司是国内少数进入光刻机核心光学系统的供应商，国产浸没式DUV光刻机量产将直接拉动其光学部件订单。
张
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张江高科是上海浦东国资控股的科创园区开发龙头，持有上海张江微电子港60%股权，深耕集成电路产业投资。本次制造浸没式DUV光刻机的公司总部位于上海，张江高科作为上海半导体产业生态核心平台，旗下园区聚集了大量光刻机产业链企业，国产光刻机突破将使张江高科的产业投资与园区运营直接受益。
茂
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茂莱光学为精密光学综合解决方案供应商，产品包括精密光学器件、高端光学镜头和先进光学系统（营收占比分别为43.8%/23.9%/31.5%），广泛应用于半导体检测加工等领域，入选光刻机（胶）概念板块。国产浸没式DUV光刻机量产将大幅提升精密光学元件的需求，公司作为国产精密光学龙头直接受益。
芯
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芯碁微装是国内直写光刻设备龙头，产品覆盖PCB直接成像和泛半导体直写光刻设备（营收占比76.7%/16.6%），是光刻机（胶）概念核心标的。本次浸没式DUV光刻机国产突破验证了国内光刻产业链的整体进步，公司在泛半导体光刻领域的技术积累具有协同价值，将受益于国产光刻产业链整体估值提升。
炬
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炬光科技为激光光学元器件龙头（营收占比43.5%），产品包括"UV-L光学系统"等可用于光刻光源领域，入选光刻机（胶）概念板块。公司收购瑞士SUSS MicroOptics后具备全球领先的光学微纳加工能力，DUV光刻机所需的高端激光光学元器件为公司核心业务方向，国产光刻机量产将打开新增量空间。
福
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福晶科技是全球非线性光学晶体龙头（LBO晶体获工信部制造业单项冠军），产品用于固体激光器制造，是激光系统的核心元器件。DUV光刻机光源系统需要高功率深紫外激光器，公司生产的精密光学元件（营收占比39.3%）和非线性光学晶体（23%）是激光器关键材料，国产光刻机量产带来上游光学材料增量需求。
腾
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腾景科技专业从事精密光学元件和光纤器件（营收占比78.4%/16.4%），入选光刻机（胶）概念板块，产品部分应用于半导体设备领域。公司拥有光学薄膜、精密光学、模压玻璃非球面等核心技术平台，可为光刻机光学系统提供配套光学元件，国产光刻机产业链国产化将带动上游精密光学元件需求。
中
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中微公司总部位于上海，是国内半导体刻蚀设备龙头（营收100%来自半导体设备），产品覆盖等离子体刻蚀和MOCVD设备。作为与光刻机同为前道核心设备的国产替代标杆，浸没式DUV光刻机突破验证了国产半导体设备产业链整体成熟度提升，中微公司作为同在上海的半导体设备龙头，将受益于国产替代加速的板块性催化。
盛
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盛美上海总部位于上海，为国内半导体清洗设备龙头，产品包括清洗设备（营收占比33.2%）、电镀设备（12.2%）及前道涂胶显影设备。国产浸没式DUV光刻机量产将带动国内晶圆厂扩产和国产设备采购意愿提升，盛美上海作为上海本地半导体设备企业，将直接受益于国产设备替代加速的产业趋势。