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【ASM国际二季度营收10亿欧元 略高于市场预期】ASM国际二季度营收10亿欧元,分析师预期9.998亿欧元。二季度运营利润率32.2%,分析师预期31.9%。二季度毛利润率51.9%,...
2025年报明确将ASM International(先晶半导体ASM)列为全球薄膜沉积设备市场的主要竞争对手(与AMAT、LAM、TEL并列)。公司以ALD技术为核心,半导体ALD设备收入8.8亿元(+169%),是国内首家量产型High-k ALD设备进入前道产线的国产厂商,与ASM在ALD领域形成直接竞争关系。
公司核心产品包括PE-ALD(等离子体增强原子层沉积)和Thermal-ALD系列,与ASM在ALD/CVD薄膜沉积设备市场直接竞争。2025年营收65.19亿元(同比+59%),ALD设备是实现先进逻辑芯片、存储芯片高深宽比结构薄膜沉积的核心设备。
2025年报披露公司拥有完整ALD产品线:12英寸介质原子层沉积系统(D-ALD)和12英寸金属栅极原子层沉积系统(MG ALD),涵盖存储芯片和逻辑芯片薄膜沉积工艺。电子工艺装备收入占比93.3%,与ASM在全球ALD设备市场直接竞争。
公司承担国家02专项'ALD金属有机前驱体产品的开发',已掌握多种ALD/CVD前驱体材料的合成、纯化技术,建成高纯半导体前驱体自主生产线。前驱体是ASM ALD设备运行必需的核心耗材,公司已实现晶圆制造所需硅/金属/高K前驱体全覆盖并导入国内主要芯片制造商量产制程。
公司2025年报披露近两年新开发LPCVD和ALD设备,多款已获重复订单。主营等离子体刻蚀设备和薄膜沉积设备,在MOCVD(LED外延)领域也与ASM存在竞争。年报指出ALD氮化钛因优秀阶梯覆盖率成为先进制程接触孔阻挡层的主要选择。
2025年报显示公司半导体前驱体材料包括高K材料、硅基材料和金属材料,广泛用于3D NAND、DRAM和逻辑芯片先进制程的薄膜沉积工艺,已构建中韩双研发部门跟踪ALD前驱体前沿技术。前驱体是ASM ALD设备必不可少的上游耗材,公司半导体业务收入占比31.4%。
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