拓荆科技：上半年净利润同比增长1324% 先进制程领域产品业务规模实现大幅增长

事件主体。2026年半年报营收29.13亿元(+49.06%)、归母净利13.43亿元(+1324.1%)，Q2净利7.72亿环比+35%；PECVD/ALD/SACVD/HDPCVD/FlowableCVD及三维集成设备规模化放量，先进制程业务大幅增长。公司为国内薄膜沉积设备龙头，概念含大基金、HBM，直接受本次业绩超预期催化。

同赛道直接竞品。以ALD为核心的半导体薄膜沉积设备商，国内首家量产型High-k ALD进入集成电路前道产线；2025年报披露多款ALD/CVD设备获重点客户验证与量产导入，覆盖High-k、硬掩模及3D NAND/TSV工艺。拓荆放量印证薄膜沉积赛道景气，华源证券2026-03-08研报称其为国内半导体薄膜沉积技术引领者。

拓荆科技2025年报披露向其采购1.53亿元(占采购额3.61%)，原董事齐雷任富创精密董事，为关联供应商；公司主营半导体设备精密零部件(工艺零部件、气体管路)，2025年报显示产品可应用于刻蚀、CVD、ALD、PECVD等关键制程设备。拓荆先进制程设备放量直接拉动其零部件订单。

拓荆科技2025-12-30再融资问询函回复披露，公司与拓荆科技、岩泉科技签署《三方战略合作框架协议》，为拓荆研发并供应精密加工部件、承接新产品测试验证；公司是国内少数量产7nm及以下刻蚀/薄膜沉积设备关键零部件的供应商，2025年报半导体业务收入11.94亿元、占比超97%，拓荆为其核心客户之一。

先进陶瓷零部件供应商，陶瓷加热器装配于SACVD、PECVD、LPCVD等薄膜沉积设备，解决CVD设备关键零部件'卡脖子'问题，拓荆科技2025年报将公司列为供应商；2025年报半导体行业收入占82.7%。拓荆薄膜沉积设备放量直接增加其陶瓷加热器需求。

同赛道前道设备龙头。2025年报披露新开发LPCVD和ALD薄膜设备多款进入市场并获重复性订单，切入薄膜沉积赛道与拓荆直接竞争；CCP/ICP刻蚀设备在国内主要客户产线市占率持续提升。拓荆先进制程放量印证国产设备景气，中微同样受益晶圆厂扩产与国产替代。

半导体设备平台龙头，产品覆盖刻蚀、薄膜(PVD)等前道核心设备；申万宏源2026-04-24研报指出其加速研发刻蚀、薄膜设备并外延收购芯源微、国泰真空。拓荆业绩爆发印证设备国产化加速，北方华创与拓荆共享先进制程扩产景气，2025年报电子工艺装备收入占比93.3%。

2025年报披露自研Ultra Pmax PECVD设备，配置自主知识产权腔体与气体分配装置，与拓荆在PECVD细分领域直接竞争；另布局先进封装湿法设备。主营清洗/电镀/PECVD，半导体设备收入占95.8%，同受晶圆厂资本开支与先进制程扩产驱动。

CMP设备国内龙头(2025年报CMP设备收入占87.2%)，前道核心设备国产化代表，概念含HBM；拓荆先进制程与三维集成设备放量印证晶圆厂先进工艺扩产提速，CMP作为前道关键设备同步受益于先进制程与存储扩产，板块景气共振。

2026年一季报披露营收同比+43.35%，主因下游半导体资本开支景气回升、半导体设备零组件收入大幅增长；公司为晶圆厂提供高纯工艺介质供应系统，2025年报集成电路行业收入占59.7%。拓荆设备放量印证国产设备景气，向上游零组件与介质系统环节传导。

2025年报披露RLS/RHH系列射频电源产品应用于半导体行业，是PECVD等等离子体薄膜沉积工艺设备的电源配套部件；2025年报半导体等电子材料收入占21.9%。拓荆PECVD设备放量带动设备配套射频电源需求，属间接上游传导。